Beneq stärkt seine führende Position als Anbieter von industriellen Großserien-ALD

(ots) -

Vorstellung neuer Beneq R11(TM)- und Beneq T2S(TM)-Produkte bei
ALD2016

Beneq, der führende Anbieter von ALD-Geräten und
Dünnfilmbeschichtungsservices stellte heute zwei neue
Dünnfilm-Gerätelösungen für Industriekunden vor, die bei modernen
ALD-Anwendungen hohe Kapazität und niedrige Prozesskosten fordern.
Die neuen Produkte sollen in der ALD-Branche die Standards der
Beschichtungsgeschwindigkeit revolutionieren.

Beneq R11(TM) - Ultraschnelle räumliche
Hochpräzisions-ALD-Beschichtung

Beneq R11 ist das neueste Produkt im umfassenden Beneq-Portfolio,
das aus ALD-Raumlösungen mit hohem Durchsatz für die industrielle
Anwendung besteht. Dieses Produkt ist eine optimale Lösung für
Hochleistungs-ALD bei Wafern in Industrieanwendungen. Es ist die
ideale Gerätewahl, wenn Geschwindigkeit, Kosten, geringe
Prozesstemperatur und höchstmögliche Filmqualität die wichtigsten
Faktoren sind.

Mit Beneq R11 ist es erstmals möglich, bei Produktionsprozessen
mit hohem Volumen das PEALD-Verfahren (Plasma Enhanced ALD) zu
verwenden. Das System kommt bei Barrieren, Isolations- und
Antikorrosionsanwendungen für MEMS, LED, OLED, Photovoltaik,
hochleistungsstarken Halbleitern, Sensoren usw. zum Einsatz.

Beneq T2S(TM) - Automatisierte Chargen-Wafer-Ausrüstung

Beneq T2S ist das neueste Mitglied im Beneq-Geräteportfolio für
die waferbasierte Produktion. Es bietet eine einzigartige Kombination
aus Chargenbetrieb mit hoher Kapazität und herkömmlicher
Kassetten-zu-Kassetten-Automatisierung. Der Beneq T2S wurde speziell
für die Halbleiter-Anforderungen entwickelt, einschließlich der SEMI
S2-Sicherheitsanforderungen und geringen Partikelzahl.

Beneq T2S eignet sich perfekt für die Hochvolumen-Produktion in
verschiedenen waferbasierten Anwendungen, einschließlich MEMS, LED,

OLED, Tintenstrahldruckerköpfen usw. Der thermische
ALD-Chargenprozess des Beneq T2S ist ideal für Oxid- und
Nitridverfahren, die für delektrische, Halbleiter-, Barrieren- und
Passivierungszwecke verwendet werden.

Offizielle Vorstellung der neuen Produkte bei der ALD2016 in
Irland

Beide neuen Produkte, sowohl Beneq R11 als auch Beneq T2S, werden
offiziell nächste Woche bei der ALD2016 - der 16. Internationalen
Konferenz für Atomlagenabscheidung - im irischen Dublin vorgestellt.

Beneq® ist führender Anbieter von Atomlagenabscheidungsgeräten
(engl. ALD) und Dünnfilmbeschichtungsdienstleistungen sowie weltweit
führender Produzent von Dünnfilm-Elektrolumineszenz-Displays.

Dünnfilmlösungen von Beneq verbessern die Leistungsfähigkeit und
Haltbarkeit von Elektronik-, Optik- und sensiblen Materialien und
schützen vor Luftfeuchte, Korrosion und Anlaufen.

Die robusten, transparenten und maßgefertigten Lumineq®-Displays
von Beneq werden in einer Vielzahl von Anwendungen für
Extrembedingungen verwendet. Vollständig transparente Lumineq
TASEL®-Displays vereinen überlegene Verlässlichkeit sowie ein
einzigartiges glasklares Sichterlebnis.

http://www.beneq.com
http://www.beneq.com/beneq-r11.html

http://www.beneq.com/beneq-t2s.html



Pressekontakt:
Matias Impivaara, Head of Marketing and Communications,
+358-9-7599-530.

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Datum: 20.07.2016 - 13:20 Uhr
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Espoo, Finnland

Kategorie:

Chemische Industrie

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