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Einladung zum SENTECH Seminar Plasma-Prozess-Technologie
ID: 1444251
SENTECH veranstaltet am 9. März 2017 ein anwendungsorientiertes Seminar über „Plasma-Prozess-Technologie“ in den Räumen von SENTECH Instruments in Berlin-Adlershof.
(firmenpresse) - Auch dieses Jahr konnten wir wieder kompetente Referenten aus Industrie und Forschung gewinnen, die Ihnen zum Plasmaätzen und zur PECVD und ALD von ihren Erfahrungen berichten.
Aktuelle Themen wie das schädigungsarme Ätzen in der Sensorik, das tiefe Silizium Ätzen, das Abscheiden von Schichtsystemen mit ALD und erste Ergebnisse von Schichten mit räumlicher PEALD bei Normaldruck werden behandelt. Darüber hinaus berichten Mitarbeiter von SENTECH Instruments über Neuentwicklungen bei Vakuum Clustern und Applikationen.
Die Vorträge werden den Seminarteilnehmern soweit möglich nach der Veranstaltung zugesandt.Gerne zeigen wir Ihnen im Anschluss an die Vortragsveranstaltung die Applikationslabore für Dünnschichtmesstechnik und Plasma Prozess Technologie sowie die Fertigungseinrichtungen bei SENTECH.
Das Seminarprogramm können Sie hier herunterladen: Program SENTECH Plasma Seminar 2017 das Anmeldeblatt finden Sie auf unserer Webseite.
Die Teilnahmegebühr beträgt EUR 238,00 incl. MwSt. Bitte senden Sie uns Ihre Anmeldung per Fax oder per E-Mail zeitnah zu.
Wir freuen uns, Sie auf unserem Plasma Seminar bei SENTECH Instruments in Berlin-Adlershof begrüßen zu können.
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Unternehmensinformation / Kurzprofil:
SENTECH Instruments entwickelt, produziert und verkauft hochqualitative Geräte für die Plasma- prozesstechnologie, die Dünnschichtmesstechnik und die Photovoltaik.
  
  
  
Datum: 13.01.2017 - 14:46 Uhr
Sprache: Deutsch
News-ID 1444251
Anzahl Zeichen: 1422
Kontakt-Informationen:
Ansprechpartner: P. Romanowski
Stadt:
Berlin
Telefon: +49 30 63 92 55 20,
Kategorie:
Maschinenbau
Meldungsart: Unternehmensinformation
Versandart: Veröffentlichung
Freigabedatum: 13.01.2017
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Die Pressemitteilung mit dem Titel:
"Einladung zum SENTECH Seminar Plasma-Prozess-Technologie"
steht unter der journalistisch-redaktionellen Verantwortung von
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